变频技术
变频技术
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IGBT基本概念
变频技术IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) 是 MOS 结构双极器件,属于具有功率 MOSFET 的高速性能与双极的低电阻性能的功率器件。 IGBT 的应用范围一般都在耐压 600V 以上、电流 10A 以上、频率为...
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IGBT驱动的集成芯片
变频技术TLP250 ( TOSHIBA 公司生产)包含一个 GAALAS 光发射二极管和一个集成光探测器, 8 脚双列封装结构。适合于 IGBT 或功率 MOSFET 栅极驱动电路。图 1-20 为 TLP250 的内部结构简图,表 1-4 给出了...
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IGCT的缓冲层与浅层发射极
变频技术IGCT 的工作原理表明, IGCT 是在 GTO 芯片基础上进行设计的,但由于传统的 GTO 技术为降低场强而增加了芯片厚度,从而使通态压降和开关损耗增大,为此 IGCT 采用了新的器件设计技术。...
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IGBT的结构
变频技术就 IGBT 的结构而言,是在 N 沟道 MOSFET 的漏极 N 层上又附加上一层 P 层的 P-N-PN+ 的 4 层结构。图 1-16 (a) 为 N 沟道 VDMOSFET 与 GTR 组合 N 沟道 IGBT (N -IGBT) , IGBT 比 VD-MOSFET 多一层 P+ 注入区,...
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IGBT的开关损耗与性能
变频技术在 IGBT 的研制中,要求功率开关器件降低损耗、提高效率、提高性能。 开关器件的损耗分为两类,一类是器件的通态正常(导通)损耗;另一类是从通态向断态(从断态向通态)转换的...
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IGCT的二极管集成和隔离区
变频技术以往的非穿通型(即不带缓冲层) GTO 的硅片厚度大于与之配对的续流二极管的硅片厚度,从而使逆导 GTO 承受过多的功耗,因此二者集成的优点得不到较好的体现。缓冲层的引入克服了...
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IGBT的工作原理
变频技术N 沟型的 IGBT 工作是通过栅极一发射极间加阀值电压 VTH 以上的(正)电压,在栅极电极正下方的 P 层上形成反型层(沟道),开始从发射极电极下的 N- 层注入电子。该电子为 P+N-P 晶体...
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IGBT的改进开关特性技术
变频技术为改进开关特性所研制的技术主要是使浓度与层的厚度达到最佳化,减少成为储存载流子的空穴,使 IGBT 特有的集电极电流拖尾部分减少。通过单元图形的最佳化减少输入阻抗 RG ,使...
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IGCT的透明阳极
变频技术为了实现低的关断损耗,需要对阳极晶体管的增益加以限制,因而要求阳极的厚度要薄,浓度要低。透明阳极是一个很薄的 PN 结,其发射效率与电流有关。因为电子穿透阳极就像阳极被...
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IGBT的基本特性
变频技术在通态中, IGBT 可以按照“第一近似”和功率 MOSFET 驱动的 PNP 晶体管建模。假如阴极和阳极之间的压降不超过 0.7V ,即使栅信号让 MOSFET 沟道形成,集电极电流 Ic 也无法流通。当沟道上...
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